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HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)

HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)

簡要描述:

HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)用途

  使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)應(yīng)用行業(yè)

MEMS系統(tǒng)

CVD薄膜;

光刻

用于光刻膠附著力的 HMDS 

作為聚合物和基材之間的粘合層

作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;

噴墨

防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動(dòng)不受限制;

生物MEMS

親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性,或防止蛋白質(zhì)吸收,或減少器件性能的“漂移"

微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織;

光學(xué)和 AR/VR 應(yīng)用

修改光學(xué)特性

創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層;

圖像反轉(zhuǎn)

金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝;

HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)技術(shù)性能

    材質(zhì):內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼

    工藝溫度:100-150℃

    溫度分辨率:0.1℃

    溫度波動(dòng)度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人機(jī)界面,一鍵作業(yè)

    層數(shù):2層

    HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

    圖像處理:圖像反轉(zhuǎn)

    真空泵: 進(jìn)口無油泵

    保護(hù)裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報(bào)&警提示,HMDS低液位報(bào)&警,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過熱保護(hù)等


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