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晶圓HMDS烤箱預處理系統

晶圓HMDS烤箱預處理系統

簡要描述:

晶圓HMDS烤箱預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

晶圓HMDS烤箱預處理系統特點

1、預處理性能更好,由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多;

5、 更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環(huán)境造成污染。

晶圓HMDS烤箱預處理系統技術參數

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:3000W

控溫范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動度:±0.5℃

達到真空度:133pa

工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)

有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。    

原理      

HMDS預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

必要性

在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用

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