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HMDS預(yù)處理烘箱在顯示器件加工中的用途

更新時(shí)間:2023-03-29   點(diǎn)擊次數(shù):1218次

一種電潤(rùn)濕顯示器件用的下基板、電潤(rùn)濕顯示器件及制備方法,包括以下步驟:

 第一步:在硅基片上整面沉積非金屬的電極層 ;

第二步:在沉積有非金屬電極層的硅基片上面均勻涂覆一層正性光阻,將光阻干燥后,曝光、顯影、干燥,在硅基片上形成與預(yù)定的電極圖案相同的光阻圖案;

第三步:以形成的該光阻圖案為掩膜,用蝕刻液將未被光阻覆蓋的非金屬電極層刻蝕 掉,然后剝離光阻,形成預(yù)定的電極圖案;

第四步:在制作好電極圖案的硅基片上面沉積介質(zhì)層,將原制作好的顯示區(qū)域內(nèi)的電極覆蓋

第五步:對(duì)介質(zhì)層表面進(jìn)行疏水性處理,處理過(guò)程在HMDS預(yù)處理烘箱中進(jìn)行,在封閉的真空腔體內(nèi)將HMDS氣化后均勻涂覆在置于腔體內(nèi)的樣品表面,處理溫度為100-200C ;

 第六步:在介質(zhì)層上面涂覆正性光阻,用像素絕緣層的掩膜覆蓋、曝光、顯影、干燥,最 終形成像素絕緣層圖案。

HMDS預(yù)處理烘箱工藝的作用

1.脫水烘烤,在成底膜和涂光刻膠之前必須進(jìn)行脫水烘烤處理;一般在溫度設(shè)定在150-200℃之間,在真空+充氮的氣氛中處理效果更好。

2.HMDS涂覆,在系統(tǒng)真空狀態(tài)下,將HMDS藥液吸入系統(tǒng)內(nèi)并氣化,氣化后的HMDS將均勻的涂覆在基地的表面。

3.堅(jiān)膜烘烤,HMDS氣化完成后,在系統(tǒng)內(nèi)保持一定的時(shí)間,使得HMDS涂覆更加有效。

4.尾氣排放,HMDS涂覆完成后排出剩余的氣體,HMDS尾氣處理。

HMDS預(yù)處理烘箱的應(yīng)用:
用于除去硅片表面的污染物(顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子),除去水蒸氣,使基底表面由親水性變?yōu)槭杷裕鰪?qiáng)表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。


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