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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
一、HMDS真空烤箱，光刻HMDS預(yù)處理烘箱技術(shù)參數(shù)：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2400W
控溫范圍：室溫+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：±0.5℃
達(dá)到真空度：133Pa
容積：90L
工作室尺寸（mm）：450*450*450（可選擇）
載物托架：2塊
時(shí)間單位：min
二、HMDS真空烤箱，光刻HMDS預(yù)處理烘箱特點(diǎn)：
1、 采用醫(yī)用級(jí)不銹鋼316L材質(zhì)制造，內(nèi)膽為不銹鋼316L；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。 2、 箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內(nèi)高真空度。 3、 微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。 4、 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套進(jìn)口PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時(shí)間。 5、 HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。 6、 整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造，無(wú)發(fā)塵材料，適用100 級(jí)光刻間凈化環(huán)境。
六甲基二硅胺（HMDS）是黃光區(qū)zui毒的東西，建議使用HMDS真空烘箱，HMDS真空烘箱預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空，待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后，開(kāi)始充人氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后，開(kāi)始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空，充入通過(guò)氮?dú)獾腍MDS氣體，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后，停止充入HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)?，完成整個(gè)作業(yè)過(guò)程。
HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理圈：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng)，在硅片表而生成硅醚，從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻（*基硅烷基較大）阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。
尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到廢氣收集管道。
