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精密熱板  光刻膠烤膠臺(tái)   堅(jiān)膜烘膠臺(tái)

精密熱板 光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)

簡要描述:

精密熱板 光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤,因?yàn)檫@次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤",簡稱后烘或堅(jiān)膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。

 光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤,因?yàn)檫@次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤",簡稱后烘或堅(jiān)膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。

  曝光后精密熱板  光刻膠烤膠臺(tái)   堅(jiān)膜烘膠臺(tái)PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。

  對(duì)于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且,PEB溫度不同時(shí),感光劑的擴(kuò)散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí),消除駐波效應(yīng)明顯。

  對(duì)于化學(xué)放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction),又稱為脫保護(hù)反應(yīng)。


   大量實(shí)驗(yàn)表明,烤膠臺(tái)烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時(shí), 對(duì)熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。

精密熱板  光刻膠烤膠臺(tái)   堅(jiān)膜烘膠臺(tái)性能

智能型烤膠機(jī)

加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于?200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品;

溫度范圍:RT~300°C 

溫度精度:0.1°C;

溫度均勻性:≤±0.5℃;

電動(dòng)頂針調(diào)節(jié)高度: 0~30mm;

加熱臺(tái)表面:耐腐蝕硬質(zhì)陽極氧化鋁制成;

控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級(jí)PLC控制,實(shí)現(xiàn)在指時(shí)間內(nèi)自動(dòng)升降,可以定時(shí)取片;

后烘精密熱板  光刻膠烤膠臺(tái)  PEB烤膠機(jī) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)用途

      精密熱板用于固化光刻膠,固化環(huán)氧塑脂,掩膜版烘烤,柔性線路檢測,穿戴技術(shù)傳感器校準(zhǔn),可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導(dǎo)體光刻工藝的前烘和堅(jiān)膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。



上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司主要經(jīng)營優(yōu)質(zhì)的精密熱板 光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)等,歡迎來電咨詢精密熱板 光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)詳細(xì)資料等信息
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